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硬質氧化作為鋁合金陽極氧化中比較特殊的一類電化學成膜方法，在鋁表面處理工藝中占據比較重要的地位。作為硬質氧化的技術指標，一個是氧化膜層較厚，普遍在25μm以上；二是氧化膜橫截面顯微硬度在350HV以上。雖然硬度和氧化膜厚度都有所提高，但是氧化工藝與普通陽極工藝并沒有本質區別。

膜結構連接鋁合金主要的工藝區別在以下幾個方面：

①硬質氧化的槽溫很低，建議在0℃左右，這就需要強大的冷凍機和攪拌循環裝置。越低的溫度造就越硬的氧化膜質量。

②硬質氧化的硫酸濃度較低，建議在130g/L左右，鋁離子含量控制在5~10g/L范圍較好。

③硬質氧化的電流密度較高、電壓較大。建議電壓在30V以上、電流密度在2.5A/dm2以上，具體電參數需要配合槽溫、硫酸濃度、合金材質等綜合確定。

④采用脈沖電源或者特殊波形電源，升壓階段采取逐步遞增加壓的方式，一方面避免材料在過高電壓下燒毀，另一方面也能促進氧化膜按照正常方式生長。

⑤硬質氧化也可以在槽液中添加一些有機酸。有機酸能夠提高氧化膜的硬度以及韌性，也有直接使用有機酸溶液來做氧化工藝，用于一些特殊場合零部件氧化。